G9 Skin Čištění a masky

Pleťová maska G9 Skin Self Aestetic Waterful Facial Mask z kolekce Cleansing & Masks je vhodná pro suchou až normální pleť. Je vyrobena ze 100% přírodní celulózy, která zajišťuje optimální přilnavost k pleti. Díky tomu může pokožka optimálně vstřebávat složky koncentrátu. Listová maska je napuštěna sérem bohatým na živiny, které pokožku doslova zaplaví vlhkostí a zklidní suchá místa na pleti a pocity pnutí.

Voděodolná pleťová maska G9 Skin Self Aestetic se velmi snadno používá:

Naneste masku na obličej a po 10-20 minutách ji odstraňte. Zbytek přípravku vmasírujte, dokud se zcela nevstřebá.

Aqua, Dipropylene Glycol, Glycerin, Trehalose, Butylene Glycol, Carbomer, Centella Asiatica Extract, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Panthenol, 1,2-Hexanediol, Chamomilla Recutita Flower Extract, Hydroxyethylcellulose, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Glyceryl Caprylate, Potassium hydroxide, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Disodium EDTA, PVM/MA Copolymer, Sodium Hyaluronate, Lavandula Angustifolia Oil, Linalool, Hydrogenated Lecithin, Camellia Sinensis Leaf Extract, Eucalyptus Globulus Leaf Extract, Hedera Helix Leaf Extract, Hibiscus Sabdariffa Flower Extract, Linum Usitatissimum Seed Extract, Nelumbo Nucifera Flower Water, Origanum Vulgare Leaf Extract, Pinus Sylvestris Leaf Extract, Salvia Hispanica Seed Extract, Squalane, Ceramide NP, Calendula Officinalis Extract, Lonicera Japonica Flower Extract, Freesia Refracta Extract, Jasminum Officinale Extract, Lavandula Angustifolia Extract, Mentha Arvensis Leaf Extract, Monarda Didyma Leaf Extract, Rosmarinus Officinalis Extract, Syringa Vulgaris Extract, Silica, Phenoxyethanol, Acrylates/Ammonium Methacrylate Copolymer, Polyquaternium-51.