Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam

S extra bohatou čisticí pěnou Shiseido z řady Future Solution LX můžete svou pleť luxusně čistit a hýčkat. Jemná čisticí pěna pro všechny typy pleti zahalí pleť a šetrně odstraní make-up a nečistoty. Obsah vlhkosti v pleti je zachován díky cenným složkám. Luxusní složení obsahuje také výtažek z listů sakury, který brání degradaci elastinu a zlepšuje tak funkci kožních buněk. Výsledkem je hladká, jemná a svěží pleť, která je dokonale připravena na následnou péči o pleť a dokáže lépe vstřebávat účinné látky obsažené v přípravcích péče o pleť.

Jak používat čisticí přípravek Future Solution LX

V dlani napěňte množství extra bohaté čisticí pěny Shiseido o velikosti perly s vodou a poté ji naneste na navlhčený obličej. Obličej vyčistěte jemnými krouživými pohyby a jemnou pěnu poté opláchněte velkým množstvím vlažné vody. Při aplikaci se vyhněte oblasti očí. Čistící přípravek byste měli používat pravidelně ráno a večer.

WATER(AQUA/EAU), MYRISTIC ACID, GLYCERIN, STEARIC ACID, POTASSIUM HYDROXIDE, SORBITOL, DIPROPYLENE GLYCOL, LAURIC ACID, PEG-20 GLYCERYL ISOSTEARATE, PEG-6, PEG-32, SODIUM METHYL COCOYL TAURATE, GLYCOL DISTEARATE, GLYCERYL STEARATE SE, POLYQUATERNIUM-7, FRAGRANCE (PARFUM), TRISODIUM EDTA, SODIUM METHYLTAURATE, BUTYLENE GLYCOL, LINALOOL, CITRONELLOL, SODIUM METABISULFITE, PRUNUS SPECIOSA LEAF EXTRACT, IRON OXIDES (CI 77492), IRON OXIDES (CI 77491),