HYPOAllergenic Base & Primer

Hydratační podkladová báze z řady HYPOAllergenic Base & Primer zajistí, že se vaše pleť pod make-upem během dne nevysuší. Obsahuje speciální cukerný rostlinný komplex, který posiluje kožní bariéru a snižuje ztrátu vody z pleti. Kyselina hyaluronová a aloe vera navíc dodávají pleti dodatečnou hydrataci. Aloe vera má také zklidňující účinky a snižuje riziko podráždění pokožky. Hydratační podkladová báze od HYPOAllergenic se nanáší pod podkladový krém. Jednoduše jej rozetřete po celém obličeji, nechte krátce působit a poté pokračujte v líčení jako obvykle.

Šetrný k pokožce a bez krutosti

Hydratační podkladová báze z řady HYPOAllergenic Base & Primer je vhodnou volbou také pro alergiky a osoby s citlivou pletí. Byl přísně testován na snášenlivost s pokožkou, obsahuje pouze ty nejlepší složky a je také vyroben v Evropě. Při výrobě výrobku bylo také zcela vyloučeno testování na zvířatech.

Podkladová báze se snadno používá a měla by se používat pod jakýkoli make-up pro dlouhotrvající matný a hladký vzhled pleti. Ideální je použít podkladovou bázi po přípravcích péče o pleť, ale před make-upem a řasenkou. Pro krásný a rovnoměrný výsledek líčení doporučujeme podkladovou bázi rovnoměrně nanést na pleť pomocí štětce. Hlavní důraz by měl být kladen na takzvanou T-zónu brady, nosu a čela. Po nanesení nechte podkladový krém několik minut vstřebat. Vaše pleť je pak připravena na podkladovou bázi a další make-up.

Ingredients: Aqua (Water), Cyclopentasiloxane, Cyclohexasiloxane, PEG-10
Dimethicone, Glycerin, Xylitylglucoside, Disteardimonium Hectorite, Aloe
Barbadensis Leaf Juice, Anhydroxylitol, Sodium Acrylates Copolymer,
Polymethylsilsesquioxane, Polysorbate 80, Stearoyl Inulin, Xylitol, Lecithin
Sodium Hyaluronate, Tocopherol, Ethylhexylglycerin, Triethoxycaprylylsilane,
Trimethoxycaprylylsilane, Mica, Tin Oxide, Phenoxyethanol, Potassium
Sorbate, Sodium Benzoate, CI 77491 (Iron Oxides), CI 77891 (Titanium
Dioxide)