Selfie Project Sheet masksČisticí látková maska #Hug Me Tight

Selfie Project #Hug Me Tight Purifying Sheet Mask pro nečistou a mastnou pleť přináší zábavu do vaší rutinní péče o pleť. Zklidňuje nečistoty a obnovuje rovnováhu pleti. Látkové masky z této řady se díky svému přírodnímu, měkkému materiálu dokonale přizpůsobí konturám obličeje. Látka je napuštěna čisticím sérem, které se skládá z 96 % z přírodních složek. Zatímco organické aktivní uhlí, které obsahuje, pohlcuje nečistoty, stahuje póry a působí antibakteriálně, zelený bambus reguluje tvorbu kožního mazu a zmatňuje pleť. Výsledkem je pleť obličeje s hlubokými póry a krásnou matnou pletí.

Jak používat Selfie Project #Hug Me Tight čisticí pleťovou masku

Vyčistěte si obličej jako obvykle. Opatrně vyjměte pečující listovou masku ze sáčku, přiložte ji na pleť podle zářezů a jemně přitlačte. Poté, co ji necháte působit 10 až 15 minut, můžete pleťovou masku sejmout a hadřík zlikvidovat. Přebytečné pečující sérum vmasírujte jemnými krouživými pohyby do pokožky obličeje a krku. Chcete-li udržet pleť čistou a vyváženou, měli byste pleťovou masku používat jednou až dvakrát týdně.

Naneste masku na vyčištěnou pleť obličeje a jemně ji přitlačte. Po 10-15 minutách masku sejměte a vyhoďte ji do odpadu. Zbytek přípravku jemnými krouživými pohyby vmasírujte do pleti.

Aqua, Propanediol, Glycerin, Betaine, Bambusa Vulgaris Extract, Charcoal Powder, Sodium Hyaluronate, Panthenol, 1,2-Hexanediol, Polysorbate 20, Hydroxyacetophenone, Caprylyl Glycol, Propylene Glycol Dicaprylate/Dicaprate, Polyglyceryl-10 Stearate, Polyglycerin-10, Polyglyceryl-10 Myristate, Xanthan Gum, Sodium Dehydroacetate, Citric Acid, Parfum, Limonene, Linalool, Benzyl Salicylate