(0)

Shiseido Future Solution LX

Extra Rich Cleansing Foam

10% extra na vše a bezplatné expresní doručení

na 1 rok s

250,00 Kč

125 ml

1 575,00 Kč 1 417,50 Kč 1 417,50 Kč

DOPORUČENÁ CENA: 2 823,27 Kč

12 600,00 Kč / 1 l

Včetně DPH

K dodání ihned

Zboží č.

Naše Vrcholy

Očekávané dodání s one by allegrost 31.12 až pá 02.01
Bezplatné vráceníAž 180 dní
Doručení zdarma
Způsoby platby

Vyberte až 2 bezplatné vzorky

Mimořádně bohatá čisticí pěna Future Solution LX od japonské značky Shiseido, jejíž tradice sahá až do roku 1872, nabízí luxusní čisticí zážitek pro každý den. Jakmile se pěna dostane do kontaktu s vodou, vytvoří bohatou a krémovou texturu. Ta jemně odstraňuje každodenní nečistoty, zbytky make-upu a přebytečný kožní maz, aniž by narušovala přirozenou rovnováhu vlhkosti pleti. Zůstává příjemný pocit hladké pleti bez pocitu pnutí. Složení je obohaceno o vybrané japonské rostlinné výtažky, jako je bylina Enmei, třešňový květ a růže Hamanasu. Toto složení dokáže podpořit přirozený jas pleti a zároveň ji optimálně připraví na následnou péči o pleť. Čistící pěna je vhodná pro všechny typy pleti, je dermatologicky testovaná a nekomedogenní.

Krémová čisticí pěna pro jemné odstranění nečistot a make-upu
Obohacená o vybrané japonské rostlinné výtažky
Zanechává na pleti příjemný a hladký pocit
Optimálně připravuje pleť na následnou péči.

označení
Extra Rich Cleansing Foam
Linie
Future Solution LX
Rada znacky
Linky péče o obličej
vlastnost
čišticí, vyživující, zvlhčující
Konzistence
pěna
Typ produktu
tuba
Oblast použití
Obličej

･ Aplikujte ráno a večer.
･ Navlhčete obličej a naneste asi 1 cm na dlaň. Smíchejte s malým množstvím studené nebo vlažné vody a vytvořte vydatnou pěnu. Přejeďte po obličeji a vyčistěte jej.
･Důkladně opláchněte.

･Chcete-li použít jako vyživující masku, naneste bohatou pěnu a vyhněte se přitom očím a ústům.
･ Hojně napěňte a naneste pěnu tak, aby přilnula k T-zóně se sklonem k mastnotě, a poté k oblasti nosu.

Pěnovou masku naneste na zónu T se sklonem k mastnotě a na nos.
･ Vyčistěte tváře pomocí pěny jako podkladu a jemnými krouživými pohyby vmasírujte.
Oblast T-zóny a nosu, na kterou jste předtím nanesli pěnovou masku, masírujte prsty malými krouživými pohyby, abyste ji důkladně vyčistili.
(Tento krok ukončete po 30 sekundách, aby nedocházelo k nadměrnému tření).
･ Přejeďte pěnou po obličeji a důkladně opláchněte.

Pokud pocítíte nepříjemné pocity, odstraňte přípravek z pokožky.

WATER(AQUA/EAU)･MYRISTIC ACID･GLYCERIN･STEARIC ACID･POTASSIUM HYDROXIDE･SORBITOL･DIPROPYLENE GLYCOL･LAURIC ACID･PEG-20 GLYCERYL ISOSTEARATE･PEG-6･PEG-32･SODIUM METHYL COCOYL TAURATE･GLYCOL DISTEARATE･GLYCERYL STEARATE SE･POLYQUATERNIUM-7･ACRYLATES COPOLYMER･ISODONIS JAPONICUS LEAF/STALK EXTRACT･PRUNUS LANNESIANA FLOWER EXTRACT･TRISODIUM EDTA･SODIUM METHYLTAURATE･BUTYLENE GLYCOL･LINALOOL･CITRONELLOL･GERANIOL･LIMONENE･SODIUM METABISULFITE･COCAMIDOPROPYL BETAINE･SODIUM LAURYL SULFATE･SODIUM BENZOATE･FRAGRANCE (PARFUM)･IRON OXIDES (CI 77492)･IRON OXIDES (CI 77491)･

? Vyhněte se přímému kontaktu s očima. V případě kontaktu s očima je důkladně vypláchněte vodou. ? Uchovávejte mimo dosah dětí. ? Skladujte mimo dosah přímého slunečního záření a vysokých teplot. ? Po použití pevně nasaďte uzávěr.